【简介：】明年就能生产28纳米光刻机。如果顺利生产28纳米光刻机，中国百分之九十的芯片制造都可以自足。
7纳米5纳米只有用在高端手机上，电脑14纳米都算是非常先进，其他行业48纳米制成的
明年就能生产28纳米光刻机。如果顺利生产28纳米光刻机，中国百分之九十的芯片制造都可以自足。
7纳米5纳米只有用在高端手机上，电脑14纳米都算是非常先进，其他行业48纳米制成的芯片都已经是非常先进了。台积电三星中芯国际不代工，华为干脆暂时放下手机业务，转战别的领域。购买国产48纳米光刻机，足以让华为不被卡脖子。
光刻机难不难确实很难，对企业来说是真难，主要成本控制问题。如果成本控制不再考虑中，光刻机难不难，回答是给几年时间完全能弥补上技术的差距。国家一旦调动各方力量，二三年基本上能接近荷兰ASML厂家的水平。
上海微电子可以制造光刻机不是啥新鲜事，人家从2002年就开始立项研发光刻机了，只是我们技术实在落后，人才又缺乏，因此进展一直比较缓慢。不过，进入2010年后国产研发团队不断攻克光刻机核心子系统的技术南广，未来我国光刻机将会迎来较快的发展，基本上可以从低端跃至中端，然后将向最后的高端领域发起冲击。
1、上海微电子现有情况：目前国内研发光刻机的厂商不少，但属于领先地位的就只有上海微电子，能量产的90nm光刻机，其他厂商只能生产200nm、300nm这样的光刻机，但在全球光刻机领域上海微电子属于低端。
目前，有消息称上海微电子正在研发28nm节点光刻机，但实际情况未知。如果说这台28nm节点的光刻机能研发成功，那么我国芯片生产或将基本解决自主问题。
因为，28nm节点的光刻机不仅仅只能用来生产28nm制程芯片，通过套刻多重曝光可以实现10nm芯片，如果代工厂技术过关，甚至可以实现7nm制程芯片。
这意味着在芯片制造设备领域，我们可以实现较为先进的芯片技术，至于具体能不能生产就看中芯这类代工厂的生产技术了。
2、我国在光刻机领域的水平：全球能做光刻机的厂商其实没几家，除了荷兰ASML，剩下就是日系厂商尼康和佳能，以及我们的上海微电子。
但是从这2年的发展来看，未来这个领域应该只有我们和ASML竞争了。日系厂商基本属于出局状态，这块它们不愿意再进行大量的投资，一句话烧不起这钱。
目前我国对于光刻机基本属于举国体制运作，2009年中科院牵头执行了02专项计划，专门来解决光刻机的问题。光刻机由于整个系统复杂，牵涉技术领域较多，因为各核心子系统均分配给了不同的技术团队和厂商来研发。
截至2020年，我们已经解决了双工件台（下图）、浸液系统、准分子激光光源等核心子系统，基本扫清了光刻机的主要技术难关，这些子系统如果放眼全球，基本上都是全球第二或第三掌握这些技术的厂商。
后续就看上海微电子如今将这些子系统进行整合了，他们只是系统制造商。
另外最先进光刻机使用的EUV光源，我们也正在研发中，按早前的规划似乎要到2030年。
Lscssh科技官观点：综合来说，现阶段我国在光刻机领域正逐步发展中，也取得了一定的成绩，如果小道消息靠谱，那预估5年内我们或许可以有较为先进的光刻机（28nm节点光刻机）。但是，要想真正冲击高端领域，我们还需要花费很长的时间，至少10年起步甚至要更长时间。
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