【简介：】在过去的10年中，华为的研发投入共计3130亿元人民币。仅在2016年，华为的研发投入就有784亿元人民币。基本上每个年头，华为都会把十分之一以上的年收入投向科研。到2016年末，华为
在过去的10年中，华为的研发投入共计3130亿元人民币。仅在2016年，华为的研发投入就有784亿元人民币。基本上每个年头，华为都会把十分之一以上的年收入投向科研。到2016年末，华为在全球获得的专利授权数量累计有62519件。其中，华为在中国的专利申请数量累计有57632件，在国外的专利申请数量累计有39613件。并且，华为在全球的专利申请总量中，有90%的专利申请为发明专利。华为现有研发人员8万名左右，在华为的员工总数中占比差不多是一半。8万名左右的研发人员遍布于全球。华为在全球共设有15个研发中心，如美国用户体验设计中心、伦敦设计中心、印度软件研发中心和欧洲5G研发中心。华为在不同国家或地区先后设立起这些研发中心的目的之一，就是为了吸引全球最优秀的人才进入华为。再有，华为的创新研究计划已经资助了1200多个研究项目，该计划覆盖20多个国家，300多所高校，2名诺贝尔奖获得者，100多名IEEE和ACM院士，以及国内外数千名专家学者的参与。
于是，华为的科研实力强吗？显然，华为的科研实力不仅强，而且是很强。既然华为有着很强的科研实力，却为什么研发不出光刻机？事实上，到目前为止，华为也并没有想过要去研发光刻机。那为什么华为未曾想过要去研发光刻机？这道理人人都该懂的。华为在通信行业中历经30年的拼搏，好不容易才在该行业中成了数一数二的大型厂商。光刻机是什么？光刻机是一种半导体生产设备，特别是被厂商用于芯片制造的光刻机，所包含的（工艺）技术可谓十分的复杂且高难。虽然一台光刻机的售价可以高达数千万美元，甚至上亿美元，但是华为突然从通信行业跨入到半导体设备行业，进而自主研发光刻机，无异于是在冒一次天大的险（得不尝失）。就算华为经受住了各种风险，集全力研发光刻机，也不见得华为最终能研发出比荷兰ASML更好的光刻机来。或者说，华为若要研发光刻机，理当要全面超过ASML，从而取代ASML在行业中的地位和作用。之后，华为不仅要能为英特尔、三星和台积电等半导体厂商提供业界最先进的设备，还要能为英特尔、三星和台积电等厂商提供行内最好的技术解决（个性化）方案。否则，华为便很可能步日本尼康和佳能的后尘。
在半导体行业中，前两大半导体厂商即是英特尔和三星。英特尔和三星还有个共同点是，两者都算得上是全能型半导体厂商。到了今天，人们都还没有亲耳听到，亲眼见到英特尔或者三星要自主研发光刻机。近几年里，苹果每年的收入都在2000亿美元之上，净利润也是多到数百亿美元。可是，苹果至今未曾有过自主研发光刻机的念头。除了英特尔、三星和苹果外，全球还有很多企业同样是有着很大的体量，有着很强的科研实力，这些企业亦都没敢跨入到半导体设备行业，并自主研发光刻机。换言之，华为若在通信行业中干到极致，那便会是一家深受人们尊敬的超大型高科技企业。况且，华为在目前的产品线已然是相当的丰富，业务范围已然是相当的广。这就好比，不同的人，有着不同的专长技能和天赋，每个人都应该在各自的行业中尽可能地扬长避短，才有可能取得事业上的成功。中国前人们早已讲出一个道理、“闻道有先后，术业有专攻”。
在国内，之前有位专业人士在网上发表过自己的看法，“芯片制造是整个IT行业的基础，OS的设计实践与芯片息息相关，如果一国之IT行业有高端芯片制造能力，必然在发展过程中有足够的机会形成底层软件的研发能力”。该专业人士进一步指出，“所以对于一国之IT产业而言，如果芯片制造工艺不行，相当于发动机造不出来，技术自然备受限制，高超不到哪里去”。上文已经说到，华为几乎不可能投入大量的资源自主研发光刻机，而国内科研机构却可以，也应该对光刻机展开探索和研发，以便全方位地掌握光刻机的制造原理和核心技术。
光刻机的英文称谓为Mask Aligner。从狭义上讲，光刻技术的大意是，厂商运用光化学等原理和一整套的方法，把掩模版上的设计图形“复制”到硅晶圆等基板上的工艺技术，该原理与照相有些相似，即硅晶圆片与光刻胶大体相当于是照相底片与感光涂层。光刻机是厂商用于芯片制造的核心设备之一，也是技术难度最高，单台研制成本最高的半导体设备。有媒体报道过，ASML等厂商为了研发出商用的极紫外光刻机（EUV光刻机），且不说之前用了太长的时间，前前后后花费掉的资金便已高达200亿美元左右。
华为当然没有光刻机，因为光刻机是从荷兰的ASML公司生产的，但是这个光刻机并不是华为生产的，华为也没有能力生产光刻机，目前高端光刻机就只掌握在ASML一家公司的手里，而且对我们有一定的限制，这也是为什么高通等公司能生产最高紧密度的芯片的原因，因为他们拥有最新的ASML的光刻机。
光刻机的英文称谓为Mask Aligner。光刻机被称之为芯片之母，光刻机的工作原理是把获得的单一光源，通过技术手段最后形成一个点，聚光到硅晶圆上，最后在硅片上形成和电脑上的逻辑电路影像一样的图案，这个图案的每个线路最小是在5纳米左右。只有光刻机发出的光，才可以制作芯片。
所以光刻机是芯片制造的核心设备，光刻机的好坏决定了芯片的好坏，也是研发成本最高的半导体设备，现在掌握在荷兰的ASML手里，比如他研发的光刻机光研发费用就高达200亿美元。EUV光刻机的单价超过1亿欧元（约8亿元人民币）。
目前我国芯片发展处于初期，华为有自己的麒麟芯片也是不错的技术，但是还是比不高高通的芯片，还有十余年的差距。而高通也是依赖于ASML的光刻机的，由此可见，华为根本不可能去
研发ASML旗下的这些光刻机，也得不偿失。华为的核心优势还是在消费电子领域。
虽然没有光刻机，但是也不重要啊，全球化社会下本来就是整合全球的优势资源，现在华为整合了美国、日本等全球资源，才做出了这么好的手机，为什么要自己做光刻机呢？
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