【简介：】中芯国际2020年实现12nm量产，2021年会在提升良率和产量上下功夫。中芯上海2020年底产能是1.5万片/月，按每片可切300-500片芯片，年产能7200万片逻辑芯片。
目前展锐t7510，平头哥
中芯国际2020年实现12nm量产，2021年会在提升良率和产量上下功夫。中芯上海2020年底产能是1.5万片/月，按每片可切300-500片芯片，年产能7200万片逻辑芯片。
目前展锐t7510，平头哥的玄铁910，龙芯3a5000，兆芯kx6000，飞腾的ft2000等代表国内先进水平的逻辑芯片，基本用12/14nm工艺，这些厂商年销100万到几百万片，完全可以支撑，另外这些芯片至少有两年的热卖期。然后大家升级到7nm（非euv），再干两年，国产euv光刻机就出来了，这样5年时间，国产半导体供应链就成熟了。
其实特别建议华米ov的低端手机能用展锐的soc，展锐的工艺可混用台积电和中芯国际的工艺，如红米9a采用展锐的t7510，展锐用中芯国际12nm工艺，这样一年就有几千万片的销量，达到规模应用，这样国产产业链才能更成功。
先给出结论，再说原因。大概率不会推动国内半导体发展。原因如下：
一、这个12纳米的小规模量产，是中芯国际的公司行为。也就是说，这是公司的专属技术，不是科学研究机构的成果，因此这个12纳米的生产技术不会无偿扩散。中芯国际一定会想办法将这一先进工艺利益最大化。很显然技术扩散不利于利益最大化，当然就不可能轻易技术扩散了。
二、12纳米技术所使用的关键设备材料都是外国产品，单独12纳米工艺的突破，不具有推广性。因为想要模仿中芯国际的工艺，必须在人财物方面都达到与中芯国际类似的高度。现在还没有一家国内公司可以与中芯国际在技术和人才上比较，因此是想推广也没可能推广。
三、这个12纳米制程技术，目前只是小批量的量产实验，成本极高，很可能没有商用化的前途，现在说推广还是太乐观。如果这个技术始终无法跨越成本线，就属于失败的量产了。在还没有确认量产成功之前，就说推广是很不负责的事情，也没有其他公司会跟进。
四、最后，12纳米芯片的制程中使用了太多国内不能控制的设备和材料，一旦推广，极有可能形成新的卡脖子问题。芯片投资极大，一旦钱投进去，外国供应商就可以随意控制价格和供应量，属于自己往敌人枪口下撞的行为，还不如回头踏踏实实地去搞28纳米的全国产化来的实际。
综上四个理由，这次中芯国际在上海的12纳米芯片小批量量产属于孤立事件，没有什么可推广的意义。
传上海微电子研发出11nm光刻机，请问是真的吗？有谁知道？
据报道称:上海微电子将在2021年交付采用ARF光源制程工艺为28纳米的光刻机，并且次光刻机在经过多次曝光之后，可以制造出11纳米制程的芯片。目前来看，这个消息应该是真的。也就是说，国内在2021年，就有自己制造的生产28纳米制程芯片的光刻机了。虽说，还不能与阿斯麦公司的极紫外EUV光刻机相比，但是足以推进我国工业芯片和军用芯片的性能向前迈一大步了。
按光源来分的话，光刻机已经发展了五代。第一代是采用波长为436纳米的g-line光源的光刻机，其制程工艺节点为800纳米-250纳米；第二代采用波长为365纳米的i-line光源的光刻机，其制程工艺节点也是800纳米-250纳米；第三代采用波长为248纳米的KRF光源的光刻机，其制程工艺节点为180纳米-130纳米；第四代也就是波长为139纳米的Arf光源的光刻机，其制程工艺节点为130纳米-65纳米，45纳米-22纳米；第五代也就是波长为13.5纳米的EUV光源的极紫外光刻机，其制程节点为22纳米-7纳米。
而上海微电子将在2021年交付的也就是第四代光刻机，制程工艺节点为28纳米。其实上海微电子与2007年制造了制程工艺节点为90纳米的光刻机，迄今过去了13年。经过14年的发展，再次拿出第四代光刻机也是很正常的。虽说，我国现在无法制造出二氧化碳EUV光源，但是在固体深紫外光源的研发上是处于国际领先地位的，最明显的例子就是KBBF晶体。
另外光刻机比较重要的镜头，国内也是可以自制的。长春光机所于2016年研发出了波像差优于0.75 nm RMS 的两镜EUV 光刻物镜系统。清华大学也在2014年研发出掩模台/硅片台同步扫描指标实测达到2.2nm，4.7nm。所以说，光刻机最重要掩膜台和工作台，镜头组，光源都可以由国内单位自己制造出来，那么上海微电子研制出制程工艺为28纳米的光刻机也没有什么可怀疑的。只是在明年交付之后，芯片的良品率并不会一下子就上去，还要过段时间才可以提升上去。
另外，上海微电子即将交付的光刻机，在经过多次曝光之后，制程工艺还可以提高到11纳米。这样一来，对那些芯片并不急需，但要求制程工艺的公司来说，也是一个好消息。毕竟国内有了这种光刻机，就不必在受到国外的制裁了。对于EUV光源，我国还需要加大研发力度，争取早日取得突破。只要光源突破之后，那剩下的就没有什么太大的难题了
由此可知，上海微电子交付28纳米制程工艺的光刻机有较大意义。
让你失望了，上海微电孑没有研制出11纳米的光刻机。但是，再告诉你一个好消息，明年，上海微电子将研制出28纳米的光刻机，经过多次光刻后，能精确到11纳米。再告诉你个更大的好消息，我们国家的实验室里巳经研制成功了9纳米光刻机，虽然，工厂化量产还得多年以后。相信.，上海微电子所一定会不辱使命，在光刻机领域大展伸手，舞出明天中国光刻机的一片希望之所。
